硅漂移探测器简介 - 2020欧洲杯下注官网,欧洲杯猜球平台,欧洲杯能网上买球吗
SDDs(图1)是用于高分辨率、高计数率x射线光谱的高级探测器。今天的sdd有一个独特的设计,使它们能够提供比锂漂移硅或Si(Li)探测器更高的性能。
低x射线能量,更大的探测器面积,以及极低的电子噪声,可以在短的峰值时间(高计数率)观测到,是sdd的关键特征,这使它们成为Si(Li)探测器的理想替代品。
图1所示。硅漂移探测器
SDDs主要用于工业规模的应用,如x射线荧光分析(EDXRF)和电子显微镜(SEM/EDS)。一个典型的SDD设备如图2所示。可以使用不同形状的SDD设备。
该设备包括用于设备冷却的热电冷却器,芯片安装在其上。图2中所示的液滴形状被广泛用于10-20mm的较小的活动区域2.辐射入口窗包括由薄导电层包围的平面p注入区域,以硬维持入口窗辐射。
图2。典型的安装和绑定SDD设备
典型的x射线检测设备包含由完全耗尽的高电阻率硅、集合阳极和前接触区组成的有源区域。体硅区域吸收入射x射线在前接触区,随后产生电子-空穴对。
入射x射线的能量决定了产生的带电载流子的数量。这些电子和空穴被阳极和前接触点之间预先建立的电场(沿着电场线)飘向阳极。前置放大器将在阳极收集的电荷转换成电压。
通过观察每个脉冲后电压阶跃的大小,即吸收每个入射x射线后,可以确定入射x射线的能量。图3显示了x射线探测器所涉及的电子学的图解。由噪声引起的输出波形的波动限制了电压阶跃测量的准确性。
图3。x射线探测器的电子学原理图。SDD虚线说明了集成FET的电影响。
由于测量的不精确性,对给定的能量会产生高斯分布。因此,测量的x射线峰由于噪声而变宽。电压阶跃和相应的噪声如图4所示。
诸如前置放大器泄漏电流、输入电容和FET增益等因素影响噪声。平均噪声是在更长的整形时间内完成的,以提高分辨率。
图4。电压阶跃作为吸收x射线函数的图解。噪声波动表明了噪声和整形时间(顶部和底部)对分辨率的影响。
为了驱动更高的计数率,在更短的整形时间内噪声的平均更少,导致电压阶跃的不确定性和分辨率的下降。
此外,低能量x射线必须具有低信噪比,这揭示了噪声在低能量x射线分辨率中的重要性。
有许多不同的电子噪声源,其特征如下:
电子噪声∝散弹噪声+ 1/f噪声+热噪声
脉冲噪声∝I泄漏
1/f噪声∝C2在
散粒噪声是第一个因素,它是由前置放大器的漏电流引起的。“1/f”噪声是下一个因素,它直接与电容的平方有关。热噪声是第三个因素,它与电容的平方与温度和反峰时间有关。
当电容足够小时,例如当阳极尺寸减小时,短噪声成为影响x射线总分辨率的主要因素。由于温度不影响散粒噪声,设备冷却不能有效地实现良好的分辨率。短噪音现在也较少依赖于长成型时间。
短噪声最终变得足够小,分辨率几乎完全受到范诺展宽的限制,这取决于辐射与硅晶格相互作用和电荷产生过程中的统计波动。当达到这个极限时,理论上的最佳分辨率大约是120eV。
对于SDD和二极管探测器,在Mn Kα峰处的分辨率作为整形时间的函数被量化,如图5所示。更低的电容意味着更低的噪声,从而获得更高的分辨率,更大的有源面积和更短的整形时间。这意味着更高的分辨率和更高的计数率。
图5。典型SDD和Si(Li)探测器在Mn Kα处的能量分辨率作为峰值时间的函数
现代sdd的阳极面积相对于其活性面积而言极小。x射线产生的带电载流子(即空穴和电子)沿着这些电场线被导向位于探测器中心的小得多的阳极。由于设备的电容与阳极尺寸成正比,非常小的阳极导致设备电容急剧降低。阳极电容通常观察到25-150fF。
拥有一个非常小的阳极有助于在更短的整形时间(更高的计数率)实现更好的分辨率,这是由于在短整形时间的电子噪声与电容的平方成比例变化,特别是在低能量时,信号噪声非常小。如果噪音足够小,则可以在佩尔蒂尔装置容易达到的温度(~ -20°C)下操作该装置。这就避免了LN的使用2冷却。
放大电子学前端晶体管直接集成到探测器芯片上,利用输出电容小,通过短金属带与收集阳极耦合。
这避免了焊盘上的寄生电容,降低了放大器场效应管和检测器阳极之间的最小电容。此外,由串音、电拾音器和微音效应引起的噪声被认为是无关紧要的。图3示意地说明了这种影响。
图7显示了一个更现代的SDD设计,包括偏置阳极和场效应晶体管。这被称为“泪滴”或“水滴”SDD。如图6所示,当集成FET位于器件中心时,它很容易受到入射x射线的照射。此外,在低x射线能量下,场效应管周围的静电场会造成性能损失。
如图7所示,当FET被偏移时,它在活动区域之外,因此它不在入射辐射的照射下。这种特征设计在较小的区域(10毫米)可以广泛看到2)探测器。
图6。示例SDD检测器设计
图7。带有偏置阳极和前置放大器FET的现代探测器
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